薄坡莫合金膜上的铁磁共振力显微镜研究

E. Nazaretski; D. V. Pelekhov; I. Martin; M. Zalalutdinov; J. W. Baldwin; T. Mewes; B. Houston; P. C. Hammel; R. Movshovich

doi:10.1063/1.2747171

薄坡莫合金膜上的铁磁共振力显微镜研究

材料科学 2009-11-13 v1 其他凝聚态物理

作者: E. Nazaretski , D. V. Pelekhov , I. Martin , M. Zalalutdinov , J. W. Baldwin , T. Mewes , B. Houston , P. C. Hammel , R. Movshovich

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摘要

铁磁共振力显微镜（FMRFM）提供了一种执行局部铁磁共振的手段。我们研究了连续 50 nm 厚坡莫合金薄膜中 FMRFM 力谱随探针-薄膜距离的演化，并对 FMRFM 探针-薄膜相互作用力的强度进行了数值模拟，考虑了 FMRFM 探针磁体存在局部强非均匀磁场的情况。实验数据与模拟结果之间的极好一致性，为 FMRFM 实验中 FMR 模式激发的机制提供了深入认识。

关键词

铁磁共振力显微镜坡莫合金薄膜力谱探针-薄膜相互作用 FMR 模式激发

引用

@article{arxiv.0704.2442,
  title  = {Ferromagnetic resonance force microscopy on a thin permalloy film},
  author = {E. Nazaretski and D. V. Pelekhov and I. Martin and M. Zalalutdinov and J. W. Baldwin and T. Mewes and B. Houston and P. C. Hammel and R. Movshovich},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0704.2442},
  year   = {2009}
}

备注

9 pages, 2 figures

薄坡莫合金膜上的铁磁共振力显微镜研究

摘要

关键词

引用

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