悬浮网格掩模光刻用于多终端约苏德耦合器的制造优化
应用物理
2026-03-26 v2
摘要
网格掩模光刻是一种用于 fully in-situ 制造约苏德耦合器的先进技术，正日益被用于多终端约苏德耦合器。本study为 optimal 掩模设计和掩模可靠性提供信息。为此，系统制造和检查了 270 个掩模设计。对掩模产率、最小尺寸以及基于超导终端数量的系统依赖性作出可靠声明。我们发现网格掩模光刻可用于可靠制造多终端约苏德耦合器，使其 lateral 掩模尺寸可降低至平均 40 nm。
引用
@article{arxiv.2512.16690,
title = {Fabrication Optimization of Suspended Stencil Mask Lithography for Multi-Terminal Josephson Junctions},
author = {Justus Teller and Abdur Rehman Jalil and Florian Lentz and Detlev Grützmacher and Thomas Schäpers},
journal= {arXiv preprint arXiv:2512.16690},
year = {2026}
}
备注
6 pages, 4 figures, 7 pages supporting information including 6 figures