利用双光子光刻技术制备超导电路金属空气桥
量子物理
2025-03-17 v1 超导电性
摘要
寄生在超导量子电路上的杂散高频芯片模式在被激发时会导致退相干。为了抑制这些模式，当接地平面被传输线中断时，通常使用超导空气桥（AB）将接地平面电气连接在一起。在此，我们展示了利用双光子光刻技术构建支撑性 3D 光刻胶结构，并结合剥离工艺来制备 AB。所制备的铝 AB 具有 K 的超导转变温度，并且在长达 100 m 的长度下表现出良好的机械强度。当在高 值的 Ta 四分之一波长共面波导谐振器上放置 35 个 AB 时，观察到了可测量的微波损耗。
引用
@article{arxiv.2503.10909,
title = {Fabrication of Metal Air Bridges for Superconducting Circuits using Two-photon Lithography},
author = {Yi-Hsiang Huang and Haozhi Wang and Zhuo Shen and Austin Thomas and C. J. K. Richardson and B. S. Palmer},
journal= {arXiv preprint arXiv:2503.10909},
year = {2025}
}