抗蚀剂坍塌形成的硅随机纳米结构中形态多样性的特征分析
数据分析、统计与概率
2016-08-03 v2 光学
摘要
本文演示了特征分析，以定量揭示由抗蚀剂随机坍塌形成的硅纳米结构中的形态多样性所提供的身份多样性和容量。分析表明，每 0.18 μm^2 纳米结构面积约提供 10^115 个可能身份，这意味着纳米级形态签名对于确保安全身份至关重要的未来信息安全应用极为有用。该特征分析提供了结构涨落多样性的直观物理图像和定量表征，同时统一了测量稳定性考量，这将广泛适用于其他材料、器件和系统架构。
引用
@article{arxiv.1602.08205,
title = {Eigenanalysis of morphological diversity in silicon random nanostructures formed via resist collapse},
author = {Makoto Naruse and Morihisa Hoga and Yasuyuki Ohyagi and Shumpei Nishio and Naoya Tate and Naoki Yoshida and Tsutomu Matsumoto},
journal= {arXiv preprint arXiv:1602.08205},
year = {2016}
}