不同覆盖率下尺寸相关应变对岛屿形成的影响：动力学蒙特卡罗研究
材料科学
2025-01-03 v1
摘要
分子束外延 (MBE) 是用于单晶薄膜沉积的外延方法。MBE 广泛应用于晶体管等半导体器件的制造，是纳米技术发展的基本工具之一。我们采用动力学蒙特卡罗 (KMC) 模拟技术研究了分子束外延 (MBE) 中的晶体生长。KMC 通过使用伪随机数选择可能的事件来模拟物理现象。本文研究了应力在不同固定覆盖值下的作用，模型包括变化应力驱动的脱离对平均岛屿形貌、平均岛屿密度、相对宽度分布和岛屿尺寸分布的影响。我们的模拟结果表明，在包含变化应力驱动脱离的纹理杂质表面上进行生长，可提高岛屿形貌的空间有序性以及岛屿尺寸分布的均匀性。
引用
@article{arxiv.2412.19857,
title = {Effect of size dependent strain at various coverage on island formation: Kinetic Monte Carlo study},
author = {Ganesh Aryal},
journal= {arXiv preprint arXiv:2412.19857},
year = {2025}
}
备注
Master's thesis