二维拓扑绝缘体中的边缘累积与矩流
介观与纳米尺度物理
2015-05-19 v2
摘要
本文分析了二维拓扑绝缘体中考虑边缘反射时的体自旋（矩）流以及边缘处的自旋（矩）累积。累积仅发生在边缘态，这区分了拓扑绝缘体与常规绝缘体。能带连续谱可以支持横向体自旋（矩）流，但它不受拓扑陈数支配，并且可能存在于常规绝缘体中。不存在与体流相关的边缘累积。
引用
@article{arxiv.1006.5218,
title = {Edge accumulation and currents of moment in 2D topological insulators},
author = {E. B. Sonin},
journal= {arXiv preprint arXiv:1006.5218},
year = {2015}
}
备注
4 pages, 2 figures, the introductory and the concluding parts of the paper revised, new references added