用于金刚石反应离子束倾斜刻蚀的硬掩模开发
应用物理
2022-04-21 v2 光学
摘要
金刚石具有优良的光学性质，并承载具有长自旋相干时间的明亮色心。近年来金刚石倾斜刻蚀技术，特别是反应离子束倾斜刻蚀（RIBAE）的进展，已成功演示了在可见光波段工作的量子光子器件。然而，由于器件尺寸增大导致刻蚀时间延长而引起掩模侵蚀加剧，在电信波长下工作的大型器件一直难以制备。我们评估了用于金刚石光子晶体纳米梁和波导 RIBAE 的不同掩模材料，以及它们的厚度、选择性、深宽比和侧壁光滑度如何影响最终的刻蚀轮廓与光学性能。我们发现，在薄氧化铝粘附层上的厚氢倍半硅氧烷（HSQ）层提供了最佳的刻蚀轮廓和光学性能。本工作中探索的技术也可适用于其他无法异质外延或以绝缘体上薄膜形式获得的体材料。
引用
@article{arxiv.2201.06416,
title = {Development of hard masks for reactive ion beam angled etching of diamond},
author = {Cleaven Chia and Bartholomeus Machielse and Amirhassan Shams-Ansari and Marko Loncar},
journal= {arXiv preprint arXiv:2201.06416},
year = {2022}
}
备注
13 pages, 4 figures