遗传算法优化的基于腔的波导交叉演示
应用物理
2017-12-12 v1 光学
摘要
演示了一种基于低品质因子腔、由遗传算法优化、单次刻蚀的紧凑型硅光子波导交叉。该器件在 1550-1600 nm 波长带内对基模 TE 模具有每交叉 0.1~0.3 dB 插入损耗和 < -35 dB 串扰，占地面积为 5 x 5 {\mu}m。
引用
@article{arxiv.1712.03743,
title = {Demonstration of a genetic-algorithm-optimized cavity-based waveguide crossing},
author = {Pengfei Xu and Yanfeng Zhang and Zengkai Shao and Yujie Chen and Siyuan Yu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1712.03743},
year = {2017}
}
备注
7 pages, 6 figures