热处理过程中Ag/Si多层膜的退化
材料科学
2009-02-13 v1
摘要
通过X射线衍射和透射电子显微镜研究了纳米晶银和非晶硅多层膜（Ag/a-Si）在退火过程中的微观结构变化。直流磁控溅射制备的Ag/a-Si多层膜即使在523K退火10小时后仍保持稳定，微观结构变化仅在600K以上发生。Ag/a-Si多层膜的退化可描述为Ag晶粒尺寸增大、Ag晶界处沟槽和针孔的形成，以及硅原子通过银晶界并沿Ag/a-Si界面扩散。这导致a-Si层变薄，并在更长的退火时间后形成Ag颗粒。
引用
@article{arxiv.0902.2045,
title = {Degradation of Ag/Si multilayers during heat treatments},
author = {K. Kapta and L. Daroczi and Z. Papp and D. L. Beke and G. A. Langer and A. Csik and M. Kis-Varga and A. L. Greer and Z. H. Barber},
journal= {arXiv preprint arXiv:0902.2045},
year = {2009}
}