通过氧插层实现石墨烯与 Ni(111) 的解耦
材料科学
2017-05-26 v1
摘要
结合表面科学技术（STM、XPS、ARPES）与密度泛函理论计算，研究了通过氧插层使石墨烯从 Ni(111) 解耦。发现了在石墨烯与铁磁（FM）Ni 之间的界面处形成反铁磁（AFM）NiO 层，其中石墨烯保护了下方的 AFM/FM 夹心系统。研究发现，在该体系中石墨烯完全解耦，并通过电荷转移被强烈 掺杂，其狄拉克点位于费米能级上方 eV 处。我们的理论分析证实了所有实验发现，并探讨了石墨烯与 AFM NiO 之间的界面性质。
引用
@article{arxiv.1702.02351,
title = {Decoupling of graphene from Ni(111) via oxygen intercalation},
author = {Yuriy Dedkov and Wolfgang Klesse and Andreas Becker and Florian Späth and Christian Papp and Elena Voloshina},
journal= {arXiv preprint arXiv:1702.02351},
year = {2017}
}
备注
submitted on 08.02.2017