阶梯结构波动的相关时间
统计力学
2009-11-10 v1 材料科学
摘要
利用时滞扫描显微镜 (STM) 评估了在 300-450 K 温度范围内在 mica 上生长的 Ag(111) 薄膜上的阶梯波动。时间相关函数按幂律形式随时间变化，，测得的 1/n 值范围为 0.19 pm 0.04 至 0.29 pm 0.04，不随温度变化。平均值 1/n = 0.24 pm 0.01 与阶梯边扩散受限波动 (n = z = 4, 守恒噪声) 相一致。时间相关函数的大小及波动宽度均随温度变化，具有相同的显著活化能 Eeff = 0.21 pm 0.02 eV，表明相关时间最多仅轻微依赖于温度。直接分析自相关函数确认相关时间最多轻微依赖于温度，因此显著相关长度强烈依赖于温度。这种行为可通过假设显著相关长度由测量时间间隔内可采样的最长阶梯波动波长所支配来实现。对 Al/Si(111) (z =2) 的先前测量的相关时间得出相同的关于测量时间间隔的结论。在两种情况下，测量时间与有效相关时间之比约为 10。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0408181,
title = {Correlation Time for Step Structural Fluctuations},
author = {O. Bondarchuk and D. B. Dougherty and M. Degawa and E. D. Williams and M. Constantin and C. Dasgupta and S. DasSarma},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0408181},
year = {2009}
}