广义应力场下微观结构偏转与薄膜/基底曲率的相关性
材料科学
2011-10-24 v1
摘要
本文发展了一种解析理论，将应力薄膜/基底系统的宏观曲率与平面转子的微观面内和面外偏转联系起来。我们将这种应力 - 偏转关系扩展至非线性应力场情形，并借助有限元模拟验证了结果。我们利用该理论研究了立方碳化硅在硅（100）上的异质外延生长，并发现由于碳化过程中硅基底上产生的缺陷，晶圆曲率技术可能无法定量或定性地确定生长薄膜中的应力场。
引用
@article{arxiv.1110.4727,
title = {Correlation between microstructure deflections and film/substrate curvature under generalized stress fields},
author = {Massimo Camarda and Ruggero Anzalone and Giuseppe D'Arrigo and Andrea Severino and Nicolò Piluso and Andrea Canino and Francesco La Via and Antonino La Magna},
journal= {arXiv preprint arXiv:1110.4727},
year = {2011}
}