溅射沉积制备的 LaAlO3/SrTiO3 界面的导电性
材料科学
2011-11-23 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
我们研究了在以 TiO2 单一终止的 SrTiO3 衬底上生长的 LaAlO3 薄膜界面的性质。我们在高压氧气氛中使用了 RF 溅射。薄膜表面平滑且平整。透射电子显微镜显示界面原子级锐利且连续，而 EELS 测量显示存在轻微的原子混合。通过 EDX 测得的 La 与 Al 的元素比为 1.07。重要的是，我们发现这些界面是不导电的，这表明由于化学计量、混合和氧空位之间的不同相互作用，溅射的界面并没有像脉冲激光沉积生长的薄膜所报道的那样发生电子重构。
引用
@article{arxiv.1111.5047,
title = {Conductivity of LaAlO/SrTiO3 Interfaces made by Sputter Deposition},
author = {I. M. Dildar and D. B. Boltje and M. H. S. Hesselberth and Q. Xu and H. W. Zandbergen and S. Harkema},
journal= {arXiv preprint arXiv:1111.5047},
year = {2011}
}
备注
3 pages, 5 figures