无序 1D 绝缘体中的相干 "金属" 电阻与中等局化

认为具有相干电子导电性质的无序一维 (1D) 线是电阻均值 <$\rho$> \simeq e^{2L/\xi} 且电阻分散 $\Delta_{\rho}$ \simeq e^{L/\xi} 的绝缘体，其中 L 为线长度，$\xi$ 为电子局化长度。本文表明，在完全相干条件下，这种 1D 绝缘体会发生向 1D "金属" 的横断面，由热力学平滑和共挥隧穿引起。结果表明，$\Delta_{\rho}$ 小于 1 且趋于与 L/$\xi$ 无关，而 <$\rho$> 随着 L/$\xi$ 的增大先近似线性增长，然后多项式增长，表现为所谓的中等局化现象。