单层MoS$_2$中达到均匀极限的激子相干与密度动力学
介观与纳米尺度物理
2018-10-02 v1
摘要
我们测量了嵌入六方氮化硼中形成-BN/MoS/-BN异质结构的单层二硫化钼中的激子相干非线性响应。利用四波混频显微与成像，我们关联了激子的均匀与非均匀展宽。我们发现激子动力学由理想晶体性质之上的微观无序所主导。利用响应的振幅与相位分析激子超快密度动力学，我们研究了共振驱动激子布居的弛豫路径。通过封装的表面保护提供了低无序的稳定单层样品，避免了表面污染及由此导致的激子展宽与动力学改变。我们识别出仅有几微米大小的、光学响应完全由均匀展宽主导的区域。在数十微米样品上观察到微弱的非均匀展宽与应变效应，归因于与-BN的剩余相互作用及封装过程中的缺陷。
引用
@article{arxiv.1810.00039,
title = {Coherence and density dynamics of excitons in a single-layer MoS$_2$ reaching the homogeneous limit},
author = {Tomasz Jakubczyk and Goutham Nayak and Lorenzo Scarpelli and Francesco Masia and Wei-Lai Liu and Sudipta Dubey and Nedjma Bendiab and Laëtitia Marty and Takashi Taniguchi and Kenji Watanabe and Gilles Nogues and Johann Coraux and Vincent Bouchiat and Wolfgang Langbein and Julien Renard and Jacek Kasprzak},
journal= {arXiv preprint arXiv:1810.00039},
year = {2018}
}