插层化合物中开放与封闭层间空间的共存
材料科学
2007-05-23 v1
摘要
制备了一系列二硫化钼插层化合物，以研究不同插层分子负载量对样品的影响。分子(5,7,7,12,14,14-六甲基-1,4,8,11-四氮杂环十四-4,11-二烯)大环占据MoS2层间的单层空间。通过热重分析、广角X射线散射、扫描电子显微镜和透射电子显微镜(TEM)对样品进行了表征。TEM图像揭示了随着大环填充量逐渐增加至每个层间空间单层时，层的堆叠情况。这些图像的傅里叶变换与块体化合物的X射线散射结果非常吻合。通过评估具有开放和封闭层间空间序列的模型粒子加权平均值的德拜求和，模拟了这些化合物的X射线散射。在每层间空间插层分子少于单层的样品中，开放和封闭层间空间共存。开放层间空间的比例随大环负载量增加而增加，从无大环的重新堆叠MoS2的零增加到完全插层化合物的1。开放和封闭空间的序列近似随机，MoS2层以相同取向但随机横向位移堆叠。大环在层间空间中的结合焓约为14 meV。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0607131,
title = {Coexistence of open and closed gallery spaces in intercalation compounds},
author = {Ralf Brüning and Steve Emeneau and Kristopher Bulmer and Rabin Bissessur and Robert Haines},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0607131},
year = {2007}
}
备注
9 pages, 12 figures