强耦合状态下腔诱导的分子结构修饰

在大多数有机分子与腔模集体强耦合的理论描述中，分子被建模为简单的二能级系统。这一图像无法描述其内部转振动（核）自由度所提供的丰富结构。我们研究了一个第一性原理模型，该模型充分考量了电子与核自由度，从而允许从全新视角探索强耦合现象。首先，我们展示了玻恩-奥本海默近似在强耦合分子-腔结构中的适用性局限。对于两个分子的情形，我们还展示了暗态（在二能级图像中与腔有效退耦）如何确实受到集体强耦合形成的影响。最后，我们讨论了超强耦合状态下的基态修饰，并表明某些分子可观测量受集体耦合强度影响，而另一些仅依赖于单分子耦合常数。