高折射率氮氧化硅平台的布里渊非线性表征
光学
2024-01-30 v2 应用物理
摘要
氮氧化硅（SiON）是一种低损耗且多功能的材料，适用于线性和非线性光子学应用。控制 SiON 中的氧氮比（O/N）提供了一种有效的方法来设计其光学和机械性质，使其成为研究片上光机相互作用，特别是受激布里渊散射（SBS）的绝佳平台。在此，我们报告了具有特定 O/N 比（以折射率 为特征）的 SiON 平台的布里渊非线性表征。首先，我们介绍了这一特定 SiON 平台及其制造细节。随后，我们讨论了用于片上布里渊非线性表征的各种技术。我们特别关注强度调制泵浦-探测锁相放大器技术，该技术能够实现超高灵敏度的表征。最后，我们分析了该 SiON 平台的布里渊非线性，并将其与其他 SiON 平台进行了比较。这项工作强调了 SiON 在基于片上布里渊的应用中的潜力。此外，它为跨各种材料平台的布里渊非线性表征铺平了道路。
引用
@article{arxiv.2401.12651,
title = {Brillouin nonlinearity characterizations of a high refractive index silicon oxynitride platform},
author = {Kaixuan Ye and Akshay Keloth and Yvan Klaver and Alessio Baldazzi and Gioele Piccoli and Matteo Sanna and Lorenzo Pavesi and Mher Ghulinyan and David Marpaung},
journal= {arXiv preprint arXiv:2401.12651},
year = {2024}
}