低折射率氮氧化硅平台的布里渊与克尔非线性特性
光学
2023-02-01 v1
摘要
包括受激布里渊散射（SBS）与四波混频（FWM）在内的非线性光学效应在微波光子学、光学频率梳与量子光子学中发挥重要作用。在低损耗且通用的集成平台上利用 SBS 与 FWM，将为构建大规模基于布里渊/克尔的光子集成电路开辟道路。本快报中，我们研究了低折射率（n=1.513 @ 1550 nm）氮氧化硅（SiON）平台的布里渊与克尔特性。我们首次在 SiON 波导中观测到后向 SBS，其布里渊增益系数为 0.3，仅通过调节波导截面即可潜在提升至 0.95。我们还在 SiON 环形谐振腔中进行了 FWM 实验，获得非线性参数 为 0.02 。我们的结果表明这是一个兼具布里渊与克尔活性的低损耗低折射率光子集成平台。
引用
@article{arxiv.2301.13619,
title = {Brillouin and Kerr nonlinearities of a low-index silicon oxynitride platform},
author = {Kaixuan Ye and Yvan Klaver and Oscar A Jimenez Gordillo and Roel Botter and Okky Daulay and Francesco Morichetti and Andrea Melloni and David Marpaung},
journal= {arXiv preprint arXiv:2301.13619},
year = {2023}
}