面向低剂量成像的电子 ptychography 方法基准测试
应用物理
2025-05-20 v2
摘要
本文介绍了针对低剂量成像的电子 ptychography 方法性能的不同分析方法进行的调查。特别是对两种模型对象（单层 MoS 和 apoferritin）进行了多尺度仿真进行基准测试。特别关注单个衍射图样保持稀疏的情况。经过对方法理论基础的严格介绍后，描述了一种基于计算步骤扫描频率分区的实现方案，显著降低了内存需求并提供了高灵活的采样。通过分析色散传递和照明条件的作用，本工作提供了关于分辨率、信噪比和探针聚焦之间权衡的见解，这对于实际实验的优化是必要的。此外，还演示了不同方法之间的重要差异。总体而言，针对两种模型对象的得到的结果表明，解析 ptychography 是低剂量成像敏感材料的吸引选择。
关键词
引用
@article{arxiv.2501.08874,
title = {Benchmarking analytical electron ptychography methods for the low-dose imaging of beam-sensitive materials},
author = {Hoelen L. Lalandec Robert and Max Leo Leidl and Knut Müller-Caspary and Jo Verbeeck},
journal= {arXiv preprint arXiv:2501.08874},
year = {2025}
}