部分还原中空TiO2纳米线中杂质的原子尺度映射
材料科学
2021-02-11 v1
摘要
纳米材料化学合成过程中杂质的掺入通常是不可控的，且鲜有报道，因为以亚纳米空间分辨率测量痕量轻元素构成了巨大挑战。然而这些外来元素会通过例如掺杂影响功能特性。本文中，我们展示了中空TiO2纳米线上的合成与部分还原反应如何导致与硼氢化钠发生还原反应时，在TiO2纳米线表面引入百万分之几的硼、钠和氮。这种掺杂解释了表面氧空位的存在，从而增强了活性。我们在模型金属氧化物纳米材料上获得的结果，揭示了导致痕量杂质不可控掺入的一般过程，而这可对其在能量收集应用中的潜在用途产生显著影响。
引用
@article{arxiv.2102.05574,
title = {Atomic scale mapping of impurities in partially reduced hollow TiO2 nanowires},
author = {Joohyun Lim and Se-Ho Kim and Raquel Aymerich Armengol and Olga Kasian and Pyuck-Pa Choi and Leigh T. Stephenson and Baptiste Gault and Christina Scheu},
journal= {arXiv preprint arXiv:2102.05574},
year = {2021}
}