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(010)面β-Ga$_2$O$_3$表面评估与衬底规范

材料科学 2021-05-11 v1 应用物理

摘要

热力学稳定氧化镓β相(β-Ga2_2O3_3)体块晶体生长的最新突破,已推动大面积β-Ga2_2O3_3衬底的商业化,随后在(010)衬底上的外延生长制备出高质量薄膜。尽管如此,金属有机化学气相沉积(MOCVD)、分子束外延(MBE)以及(010) β-Ga2_2O3_3表面的加工已知会沿[001]方向形成亚纳米尺度小面,以及垂直于[001]方向的较大脊状结构。对(010)表面的密度泛函理论计算显示,沿[001]方向存在亚纳米尺度的表面有序特征。此外,本文给出了β-Ga2_2O3_3的 general 晶体结构,并提出了对(010)衬底进行标准化以解释和控制较大尺度脊状结构形成的建议。

关键词

引用

@article{arxiv.2105.03741,
  title  = {Assessment of the (010) $\beta$-Ga$_2$O$_3$ Surface and Substrate Specification},
  author = {Michael A. Mastro and Charles R. Eddy, and Marko J. Tadjer and Jennifer K. Hite and Jihyun Kim and Stephen J. Pearton},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2105.03741},
  year   = {2021}
}

备注

12 pages, 8 figures