聚束宽度与宏阶高度:步阶-步阶排斥效应的定量研究
算子代数
2020-01-24 v1 泛函分析
摘要
生长晶体表面上的步阶聚束可由驱动力的两个方向诱导:步阶向上与步阶向下。这些过程发生在不同的吸附原子浓度中且性质不同。在本研究中,我们展示了聚束过程的整体图像如何依赖于短程步阶-步阶排斥的强度。由附加参数控制的步阶间排斥相互作用被引入最近研究的基于元胞自动机的邻晶面晶体生长原子尺度模型。结果表明,排斥以不同方式修改聚束过程,取决于失稳力的方向。特别地,当步阶-步阶排斥增加时,聚束轮廓、稳定性图和各类聚束性质的时间标度依赖均受影响。步阶间的排斥在两个特征尺寸——聚束宽度与宏阶高度之间创造了竞争,充当描述步阶聚束现象的第二长度尺度。作为 (01) 小面化宏阶与 (11) 小面化聚束之间相互作用的结果,出现了依赖于步阶-步阶排斥参数的新特征时间尺度。作为聚束主要特征尺寸的聚束高度受排斥影响并不显著。
引用
@article{arxiv.2001.08462,
title = {Applications of entropy of product systems: higher-rank graphs},
author = {Evgenios T. A. Kakariadis},
journal= {arXiv preprint arXiv:2001.08462},
year = {2020}
}
备注
23 pages