具有非晶 WC$_x$ 超导接触的纳米结构中的安德烈夫反射测量
超导电性
2009-12-08 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
本文介绍了 Co/和 Cu/碳化钨（WC）接触的点接触安德烈夫反射测量。金属薄膜通过电子束光刻和剥离工艺进行图案化；通过聚焦 Ga 离子束（FIB）分解金属有机蒸汽（六羰基钨），直接在预图案化的样品上生长碳化钨超导尖端。作为温度和磁场函数的电流-电压测量清晰地显示了安德烈夫反射的特征。实验电导-电压曲线采用 Blonder-Tinkham-Klapwijk 理论进行分析。结果突显了使用 FIB 制备的非晶 WC 尖端进行金属纳米结构点接触光谱学的可能性、优点和缺点。
引用
@article{arxiv.0912.1270,
title = {Andreev reflection measurements in nanostructures with amorphous WC$_x$ superconducting contacts},
author = {J. Barzola-Quiquia and M. Ziese and P. Esquinazi and N. Garcia},
journal= {arXiv preprint arXiv:0912.1270},
year = {2009}
}
备注
11 pages and 6 figures