圆柱形 Hele-Sham 单元中粘性纹理的解析方法

我们报告了关于圆柱形 Hele-Sham 单元中粘性纹理不稳定性发展的解析结果。该圆柱形 Hele-Sham 单元半径为 a，厚度为 b。我们推导了此类圆柱背景下的达利原理的广义形式，并发现它在流动通过平直、矩形单元时可恢复常规达利原理，同时在 b/a 的高阶修正项中也有体现。我们关注单元曲率半径对不稳定性特征的影响。通过模式耦合分析，研究了线性和略为非线性的流动 regimes。我们的解析结果表明，随着曲率半径的增大，线性增长率和指纹竞争都将受到抑制。也讨论了圆柱单元中不存在指纹分裂事件的现象。