一种耐热三层光刻胶用于铌材料的剥离
材料科学
2009-10-31 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
我们开发了一种用于制作高品质亚微米铌结构的新型剥离工艺。该工艺采用具有高玻璃化温度 T_{g}= 235 C 和卓越化学稳定性的耐热聚合物。100 nm 宽的铌线路的超导临界温度高于 7 K。给出铌-铜亚微米混合结构阴影蒸发的一个示例。该工艺的潜在应用是制作使用耐高温金属的非常小的单电子器件。
引用
@article{arxiv.cond-mat/9909053,
title = {A thermostable trilayer resist for niobium lift-off},
author = {P. Dubos and P. Charlat and Th. Crozes and P. Paniez and B. Pannetier},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/9909053},
year = {2009}
}
备注
6 pages, 6 eps figures, submitted to Journal of Vacuum Science and Technology B