对数最小二乘法的一个公理化刻画
最优化与控制
2020-08-26 v5
摘要
我们给出了对数最小二乘法（有时称为行几何平均）的公理化刻画，该方法用于从成对比较矩阵导出偏好向量。该过程被证明是满足两个性质的唯一方法：一致情形下的正确性，要求对任何一致矩阵复现诱导向量；以及对三元组上特定变换的不变性，即权重向量不受沿 3-循环矩阵元素被正标量任意相乘的影响。
引用
@article{arxiv.1704.05321,
title = {A characterization of the Logarithmic Least Squares Method},
author = {László Csató},
journal= {arXiv preprint arXiv:1704.05321},
year = {2020}
}
备注
11 pages