基于代工厂兼容沉积薄膜的超低成本氮化硅光子学
光学
2023-01-10 v1 应用物理
摘要
代工厂中使用的氮化硅光子器件的制备工艺需要低温沉积，这通常导致较高的传输损耗。在此，我们展示仅通过降低波导表面粗糙度，利用代工厂兼容工艺即可实现低至 0.42 dB/cm 的传输损耗。通过对制备的器件进行快速热退火（RTA）和炉内退火后处理，我们分别实现了低至 0.28 dB/cm 和 0.06 dB/cm 的传输损耗。这些低损耗可与采用高温、高应力低压化学气相沉积（LPCVD）薄膜的传统器件相媲美。我们还调控了器件的色散，并证明这些器件可用于线性和非线性应用。我们展示了低阈值参量振荡、宽带频率梳和窄线宽激光器。我们的工作证明了基于代工厂的可扩展光子系统的可行性。
引用
@article{arxiv.2301.03053,
title = {Ultra-Low-Loss Silicon Nitride Photonics Based on Deposited Films Compatible with Foundries},
author = {Xingchen Ji and Yoshitomo Okawachi and Andres Gil-Molina and Mateus Corato-Zanarella and Samantha Roberts and Alexander L. Gaeta and Michal Lipson},
journal= {arXiv preprint arXiv:2301.03053},
year = {2023}
}