面向铌酸锂集成光子学的超高速高分辨率激光光刻
光学
2023-03-02 v1 应用物理
摘要
光刻辅助化学机械刻蚀（PLACE）是专为在薄膜铌酸锂（TFLN）上制备高质量大规模光子集成电路（PICs）而开发的技术，已实现从高质量（高Q）微谐振器、低损耗波导到电光（EO）可调谐激光器和波导放大器等一系列PIC基本单元的制备。面向PIC器件与系统的高通量制造，我们开发了采用高重频飞秒激光与高速多边形激光扫描仪的超高速高分辨率激光光刻制备系统，在200 nm空间分辨率下实现了4.8 cm²/h的光刻制备效率。我们展示了基于TFLN的光子结构、光学相位掩模以及彩色印刷的晶圆级制备。
引用
@article{arxiv.2303.00166,
title = {Ultra-high-speed high-resolution laser lithography for lithium niobate integrated photonics},
author = {Jinming Chen and Zhaoxiang Liu and Lvbin Song and Chao Sun and Guanhua Wang and Ya Cheng},
journal= {arXiv preprint arXiv:2303.00166},
year = {2023}
}