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温度激活扩散沉积中从致密到多孔薄膜的过渡

统计力学 2015-12-02 v1 介观与纳米尺度物理 材料科学

摘要

我们研究了一个具有吸附粒子温度激活扩散的薄膜生长模型,允许悬垂和孔隙的形成,但不允许吸附原子或团簇从沉积物上脱离。在一维基底上进行了模拟,针对具有单键的吸附原子的扩散-沉积比R以及每个额外最近邻(NN)的脱离概率epsilon的多个值,其激活能分别为Es和Eb。如果R和epsilon独立变化,低孔隙率和高孔隙率区域在 0.075 < epsilon_c < 0.09 处分隔,该点以下孔隙率极小,而较大的epsilon下具有有限孔隙率。或者,对于固定的Es和Eb并改变温度,孔隙率在Tc处有一个最小值,且在该点之上观察到一个随温度升高而增加的非平凡区域。这与吸附原子的大迁移率有关,类似于平衡表面粗化特征。在该高温区域,由于非脱附条件,沉积物具有临界渗流团簇的结构。孔隙是由相应渗流骨架的团块包围的区域,因此孔径s的分布预计标度为 s^{-tau},其中 tau ~ 1.45,与数值估计合理吻合。沉积物外界面的粗化表明在转变以下遵循Villain-Lai-Das Sarma标度。在转变以上,粗糙度指数 alpha ~ 0.35 通过关系 alpha = 2-d_B 与渗流骨架结构一致,其中 d_B 是骨架分形维数。

关键词

引用

@article{arxiv.1512.00117,
  title  = {Transition from compact to porous films in deposition with temperature activated diffusion},
  author = {Dung di Caprio and F. D. A. Aarao Reis},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1512.00117},
  year   = {2015}
}

备注

15 pages, 10 figures