用于聚二甲基硅氧烷表面处理的介质阻挡放电转移等离子体射流

本工作研究了使用介质阻挡放电（DBD）等离子体在两种不同装置中处理聚二甲基硅氧烷（PDMS）表面：一种使用从传统 DBD 获得的初级等离子体射流，另一种使用 DBD 等离子体射流转移。我们研究了两种等离子体处理下，水接触角（WCA）随等离子体处理时间和老化时间的变化，以及 PDMS 样品表面粗糙度的变化。我们还比较了两种等离子体的振动温度和转动温度，并首次发现转移等离子体射流的振动温度（T_vib）高于初级射流。T_vib 值的增加似乎是转移等离子体射流改善粘附性能和表面润湿性的主要原因。文中对振动温度升高的可能原因进行了解释。