Weyl半金属中的拓扑响应与手征反常
介观与纳米尺度物理
2012-09-27 v3
摘要
我们证明了Weyl半金属的特征拓扑输运现象，即半量子化反常霍尔效应和手征磁效应（平衡磁场驱动电流），可以被视为同一基本现象——手征反常的两种不同表现。我们表明，Weyl半金属中的拓扑响应完全由电磁场作用量中的θ项描述，其中θ不是像拓扑绝缘体中那样的常数参数，而是一个场，其随时空坐标线性变化。我们还表明，对于足够弱的平移对称性破缺扰动（这些扰动在Weyl半金属谱中打开一个能隙，消除Weyl节点），θ项和相应的拓扑响应仍然存在。
引用
@article{arxiv.1206.1868,
title = {Topological response in Weyl semimetals and the chiral anomaly},
author = {A. A. Zyuzin and A. A. Burkov},
journal= {arXiv preprint arXiv:1206.1868},
year = {2012}
}
备注
9 pages, 1 figure, published version