溅射刻蚀中各向异性离子横向离散的拓扑相边界移动与饱和

已知离子束轰击溅射的表面会呈现出图案，其行为可用随机偏微分方程建模。一个被广泛接受的模型是Cuerno-Barabasi模型，该模型对溅射表面形貌的预测具有鲁棒性。通过使用标度论证对随机模型进行分析，可以理解导致此类表面形貌的因素。对于此类解释，系数的知识至关重要。这一点尤其重要，因为这些系数随不同材料而变化，溅射过程本身会在某个有限时间尺度内产生非平衡表面，并且最近一些连续理论无法解释的表面形貌结果也暗示了其重要性。我们计算并研究了这些系数作为溅射参数的函数，针对溅射材料内部各向异性离子能量分布这一尚未报道的情况。因此，我们给出了各向异性离子横向离散这一重要情况的相图。我们观察到当级联碰撞几何旋转时相边界发生移动，并且还发现了图中的饱和行为；在这种情况下，边界变得与穿透深度无关。我们的结果表明了由非晶化表面的斜入射离子刻蚀产生的、迄今无法解释的纳米点形貌的可能起源。