中文

用于低能缪子谱仪的薄膜与表面制备腔室

材料科学 2023-04-12 v1 介观与纳米尺度物理

摘要

我们设计并构建了一个本底压力为 <2×109<2 \times 10^{-9}~mbar 的薄膜制备腔室。目前,该腔室配备了两个大面积蒸发源(一个分子蒸发源和一个电子束蒸发源)、一把离子溅射枪、一个膜厚监测仪和一个基底加热器。其设计使得它能够处理大面积薄膜样品,并可在未来将其在真空下直接转移至低能缪子(LEM)谱仪或量子物质与材料中心(QMMC,将于 2024 年建成)的其他先进表征设施。该腔室的初步调试在各种基底材料上获得了高质量、大面积且均匀的 CuPc 和 TbPc2_2 分子薄膜。我们给出了对这些薄膜进行低能 μ\muSR(LE-μ\muSR)测量的首批结果。

关键词

引用

@article{arxiv.2212.01899,
  title  = {Thin film and surface preparation chamber for the low energy muons spectrometer},
  author = {Hanna Teuschl and Angelo Di Bernardo and Leandro M. O. Lourenço and Thomas Prokscha and Ricardo B. L. Vieira and Zaher Salman},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2212.01899},
  year   = {2023}
}

备注

8 pages, 7 figures, muSR2020 conference proceedings