石墨烯上 Xe 单分子层的热润滑性
介观与纳米尺度物理
2014-06-11 v1 材料科学
摘要
利用石英晶体微天平 (QCM) 在 25 至 50 K 温度范围内探索了沉积在石墨烯上的 Xe 单分子层的纳米摩擦。石墨烯通过化学气相沉积生长，并通过聚合物印章转移至 QCM 电极。在低温下，Xe 单分子层完全钉扎在石墨烯表面。高于 30 K 时，Xe 薄膜开始滑动，且薄膜开始滑动的去钉扎起始覆盖度随温度降低而减小。在裸金上重复进行的类似测量显示 Xe 薄膜的滑动增强，且去钉扎温度降至 25 K 以下。氪和氮的纳米摩擦测量证实了这一情形。这种热润滑行为可以用最近关于吸附岛与晶体基底之间静摩擦力尺寸依赖性的理论来解释。
引用
@article{arxiv.1309.6765,
title = {Thermolubricity of Xe monolayers on graphene},
author = {M. Pierno and L. Bignardi and M. C. Righi and L. Bruschi and S. Gottardi and M. Stöhr and P. L. Silvestrelli and P. Rudolf and G. Mistura},
journal= {arXiv preprint arXiv:1309.6765},
year = {2014}
}
备注
5 pages, 3 figures