关于石墨上混合 Ar-Xe 亚单层膜的相行为
材料科学
2012-07-13 v1 其他凝聚态物理
摘要
利用正则系综和巨正则系综中的 Monte Carlo 模拟方法，我们讨论了石墨上混合 Ar-Xe 亚单层膜的熔化和有序结构的形成。计算采用了所研究系统的二维和三维模型。结果表明，只要总密度不接近单层填满，面外运动就不会影响吸附膜的性质。另一方面，在接近单层填满时，粒子向第二层的跃迁会显著影响混合膜的性质。研究表明，该混合物在液相中表现出完全混溶，并根据膜的组成冻结成相应结构的固相。对于亚单层密度，熔化温度随膜的组成发生非单调变化。具体而言，当氙浓度增加到约 20% 时，熔化温度最初升高，随后降低并在氙浓度约为 40% 时达到最小值。对于更高的氙浓度，熔点逐渐升高至对应于纯氙膜的温度。此外，还证明了混合膜的相图拓扑对吸附层的组成很敏感。
引用
@article{arxiv.1207.2995,
title = {On the phase behavior of mixed Ar-Xe submonolayer films on graphite},
author = {A. Patrykiejew},
journal= {arXiv preprint arXiv:1207.2995},
year = {2012}
}
备注
16 pages, 16 figures