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硅中氢与III族受主反应的理论研究

材料科学 2023-07-31 v1

摘要

本文研究了若干涉及原子氢、分子氢与III族受主的化学反应的热力学。结果在 First-principles 层面上解释了包含这些物种的热激活与载流子激活过程。受主-氢配对问题亦被重新审视。我们给出了长程迁移、补偿效应与短程反应的精细化物理化学图像,最终形成完全钝化的 Si-HX\equiv\textrm{Si-H}\cdots X\equiv 结构,其中 XX 为III族受主元素。在基于硅的太阳能电池的光与高温诱导退化(LeTID)背景下,考虑了受主-H 与受主-H2_{2} 复合物的形成与解离。除了解释观测趋势并回答关于受主-氢配对性质的若干基本问题外,我们发现 BH2_{2} 复合物是 H2_{2} 分子与硼反应生成 BH 对(同时伴随自由空穴的减少)过程中的副产物。所考虑缺陷反应下 Helmholtz 自由能的计算变化,以及 BH2_{2} 形成/解离的激活势垒(接近 1\sim1 eV),与实验测定的 Si:B 基电池在 LeTID 期间退化/恢复速率的激活能相符。预期比硼更重的双氢化物受主为有效质量型浅施主,因此不太可能表现出类似的非辐射复合活性。

关键词

引用

@article{arxiv.2307.15633,
  title  = {Theory of reactions between hydrogen and group-III acceptors in silicon},
  author = {José Coutinho and Diana Gomes and Vitor J. B. Torres and Tarek O. Abdul Fattah and Vladimir P. Markevich and Anthony R. Peaker},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2307.15633},
  year   = {2023}
}