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支撑石墨烯中界面等离激元 - 声子散射理论

介观与纳米尺度物理 2015-06-05 v1

摘要

限制支撑石墨烯中电子迁移率的因素之一是远程声子散射。我们构建了石墨烯等离激元与基底表面极化声子 (SPP) 模式之间耦合的理论,发现该耦合导致界面等离激元 - 声子 (IPP) 模式的形成,并由此涌现出远程声子的动态反屏蔽和屏蔽现象。利用我们的理论计算了 SiO2_{2}、HfO2_{2}、h-BN 和 Al2_{2}O3_{3} 基底的远程声子限制迁移率。我们发现 h-BN 产生最高的峰值迁移率,但在实际有用的高密度范围内,尽管 HfO2_{2} 是具有低频模式的高-κ\kappa 电介质,HfO2_{2} 支撑石墨烯中的迁移率仍然很高。我们的理论预测,在极高的载流子浓度下,总迁移率的强温度依赖性实际上会消失。此外还讨论了多晶性对 IPP 散射的影响。

关键词

引用

@article{arxiv.1207.6171,
  title  = {Theory of Interfacial Plasmon-Phonon Scattering in Supported Graphene},
  author = {Zhun-Yong Ong and Massimo V. Fischetti},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1207.6171},
  year   = {2015}
}

备注

33 pages, 7 figures