支撑石墨烯中界面等离激元 - 声子散射理论
介观与纳米尺度物理
2015-06-05 v1
摘要
限制支撑石墨烯中电子迁移率的因素之一是远程声子散射。我们构建了石墨烯等离激元与基底表面极化声子 (SPP) 模式之间耦合的理论,发现该耦合导致界面等离激元 - 声子 (IPP) 模式的形成,并由此涌现出远程声子的动态反屏蔽和屏蔽现象。利用我们的理论计算了 SiO、HfO、h-BN 和 AlO 基底的远程声子限制迁移率。我们发现 h-BN 产生最高的峰值迁移率,但在实际有用的高密度范围内,尽管 HfO 是具有低频模式的高- 电介质,HfO 支撑石墨烯中的迁移率仍然很高。我们的理论预测,在极高的载流子浓度下,总迁移率的强温度依赖性实际上会消失。此外还讨论了多晶性对 IPP 散射的影响。
引用
@article{arxiv.1207.6171,
title = {Theory of Interfacial Plasmon-Phonon Scattering in Supported Graphene},
author = {Zhun-Yong Ong and Massimo V. Fischetti},
journal= {arXiv preprint arXiv:1207.6171},
year = {2015}
}
备注
33 pages, 7 figures