自洽屏蔽近似下条纹形成系统中的向列相
强关联电子
2014-06-03 v1
摘要
我们表明，为了描述具有 Brazovskii 类各向同性竞争相互作用的条纹形成系统中的各向同性 - 向列相变，必须在有效哈密顿量的 1/N 近似中考虑次领头阶。这可以在自洽屏蔽近似中方便地实现。我们求解了相关方程，并表明该近似中的自能能够产生必要的波矢依赖性，以解释向列相特征的两点关联函数的各向异性特性。
引用
@article{arxiv.1310.1433,
title = {The nematic phase in stripe forming systems within the self consistent screening approximation},
author = {Daniel G. Barci and Alejandro Mendoza-Coto and Daniel A. Stariolo},
journal= {arXiv preprint arXiv:1310.1433},
year = {2014}
}
备注
8 pages, 4 figures