投影效应对测量回溅特征的影响

回溅半径 $R_{\rm sp}$ 是暗晕区分 infalling 和 accreted 物质的边界。这导致在 $R_{\rm st}$ 处密度轮廓出现陡峭下降，$R_{\rm st}$ 是常用的 $R_{\rm sp}$ 代理观测量。在观测上，$R_{\rm st}$ 可通过拟合暗晕的投影星系数密度轮廓来测量，但观测值与预期值之间存在一些偏差。因此，我们研究了将密度轮廓投影到天球平面是否会在确定 $R_{\rm st}$ 时引入任何系统性偏差，通过研究来自 IllustrisTNG 模拟的真实三维和投影暗晕密度轮廓来实现。我们研究了一系列投影长度，发现从投影轮廓获得的 $R^p_{\rm st}$ 接近真实的 $R^*_{\rm st}$，但随投影长度增加呈现轻微下降趋势。我们还量化了回溅特征的显著性，并研究了该特征形状随投影长度的变化。