不规则边缘处的晕：溅回半径的重要性

我们利用从Illustris抽取的大样本晕以及一组缩放模拟（MUGS），探索了暗物质晕的外围，直至2.5倍维里半径。利用这些，我们对R$_{vir}$之外的形状轮廓进行了系统探索。在Illustris晕的平均球度轮廓中，我们识别出一个靠近维里半径的凹陷，该特征在广泛的质量和吸积率范围内稳健存在。该特征的内边缘可能与维里半径相关，外边缘与溅回半径相关。由于晕与晕之间的高度差异，这一结果仅在平均上可见。然而，在MUGS样本中的四个单独晕中，靠近溅回半径处球度的下降及随后的恢复是明显的。我们发现该特征持续数个Gyr，并随晕增长。该特征出现在球形晕密度分布与环境中的纤维状结构之间的界面处。当吸积率较高时，形状特征最强，这意味着该效应是由于吸积物质与维里化物质的混合所致。纤维状速度场在维里半径内的晕区域迅速混合，此区域与溅回半径之间的区域作为过渡区。我们还在许多MUGS晕的径向密度梯度中识别出一个持久且平滑演化的溅回区域。