吸积暗物质晕中的溅回现象
宇宙学与河外天体物理
2015-06-22 v1
摘要
最近的研究表明，暗物质晕外围的密度剖面可能在狭窄的半径范围内变得极陡。这种行为是由吸积后首次经过远心点的溅回物质产生的。我们表明，可以从第一性原理非常简单地理解这一溅回特征的位置。我们提出了一个基于球对称坍缩的简单模型，无需任何自由参数即可准确预测溅回位置。决定溅回半径的重要量是吸积率和红移。
引用
@article{arxiv.1409.4482,
title = {Splashback in accreting dark matter halos},
author = {Susmita Adhikari and Neal Dalal and Robert T. Chamberlain},
journal= {arXiv preprint arXiv:1409.4482},
year = {2015}
}
备注
8 pages