氧在 Ni81Fe19/Ta 界面的分布
材料科学
2021-11-15 v1
摘要
了解氧原子在磁性金属/氧化物或磁性金属/非磁性金属界面的分布，可作为优化器件制备的有用工具。我们研究了由 15 个双层组成、每层厚 2.5 nm 的多层 Ni81Fe19/Ta 样品，该样品通过磁控溅射由 Ni81Fe19 和 Ta 靶在玻璃衬底上生长而成。我们利用 X 射线吸收近边结构、扩展 X 射线吸收精细结构、小角 X 射线衍射及模拟对样品进行了表征。在 O2 暴露过程中掺入 Ni81Fe19 薄膜的氧原子主要与 Fe 原子成键。Ni81Fe19 表面的这种部分氧化充当了到达 Ta 原子的屏障，阻止了 Ni81Fe19/Ta 界面的混合。观察到 Ni81Fe19 表面因 TaO x 的形成而发生的还原。
关键词
引用
@article{arxiv.1901.09368,
title = {The distribution of oxygen at the Ni81Fe19/Ta interface},
author = {T. J. A. Mori and R. D. D. Pace and W. H. Flores and M. Carara and L. F. Schelp and L. S. Dorneles},
journal= {arXiv preprint arXiv:1901.09368},
year = {2021}
}
备注
14 pages, 9 figures, accepted for publication in Advances in Materials Science and Engineering