AiiDA-KKR 插件及其在高通量杂质嵌入拓扑绝缘体中的应用
材料科学
2021-05-06 v2 计算物理
摘要
超级计算资源日益可用，使基于计算机的材料科学进入高通量计算的新时代。近期，Pizzi 等人 [Comp. Mat. Sci. 111, 218 (2016)] 引入了 AiiDA 框架，提供自动化计算方式，同时允许在数据库中存储复杂工作流的完整溯源。我们展示了 AiiDA-KKR 插件的开发，该插件可基于相对论全势 Korringa-Kohn-Rostoker 格林函数方法执行大量第一性原理杂质嵌入计算。AiiDA-KKR 插件的能力通过数千种杂质嵌入原型拓扑绝缘体 Sb2Te3 的计算得以展示。结果收集于 JuDiT 数据库中，我们用以研究杂质的化学趋势以及物理性质的费米能级与层依赖关系。这包括自旋矩、杂质形成带隙态的趋势或其对宿主晶体电荷掺杂的影响研究。这些性质依赖于嵌入宿主晶体中杂质的详细电子结构，凸显了为获得准确预测而进行第一性原理计算的需求。
引用
@article{arxiv.2003.08315,
title = {The AiiDA-KKR plugin and its application to high-throughput impurity embedding into a topological insulator},
author = {Philipp Rüßmann and Fabian Bertoldo and Stefan Blügel},
journal= {arXiv preprint arXiv:2003.08315},
year = {2021}
}