氩气磁控溅射系统中热钛靶的表面温度分析
应用物理
2020-10-06 v1 等离子体物理
摘要
磁控溅射系统中的靶温是一个重要参数，它不仅影响所沉积薄膜的物理和化学性质，还激发反应溅射过程。因此，建立靶温与磁控溅射过程其他参数(如气体压力和放电功率)之间的关系具有重大意义。本文致力于钛靶在氩气介质中温度的实验与数值研究。通过求解充满氩气的腔室内磁控溅射系统的热方程，对靶温进行数值模拟。将模拟结果与实验温度数据进行比较。模拟结果与实验数据在靶温对功率的依赖关系上的差异，由离子向气体传热经验模型加以解释。
引用
@article{arxiv.2010.01957,
title = {Surface temperature analysis of a hot titanium target in argon magnetron sputtering system},
author = {Haci Ahmedov and Aleksandr A. Kozin and Viktor I. Shapovalov and Aygerim N. Djandalieva and Arif Demir and Beste Korutlu},
journal= {arXiv preprint arXiv:2010.01957},
year = {2020}
}
备注
12 pages, 8 figures