近晶A液晶薄膜中的表面锚定无序与赝Casimir力

近晶A液晶薄膜表面锚定中的随机（无序）分量通常会改变热赝Casimir相互作用。淬火型锚定无序通常与热赝Casimir力解耦，并产生额外的无序诱导相互作用，这与退火型无序不同，后者对赝Casimir力的影响是非加和的。我们通过假设薄膜的一个基底被无序源污染来考察表面锚定无序的影响，导致该基底上优选分子锚定取向（易轴）呈高斯加权分布，具有有限均值与方差，或更一般地，具有面内均匀两点关联函数。我们表明，无序（无论是淬火型还是退火型）的存在均导致薄膜限制基底间的净热涨落力大小显著减小。在淬火情形下，这直接依赖于无序方差的加和自由能的后果；而在退火情形下，相互作用力的抑制可基于无序重正化的有效锚定强度来理解。