中文

常压下生长的 $\mathrm{LaO_{0.5}F_{0.5}BiS_{2}}$ 中的超导能隙结构

超导电性 2016-12-07 v1

摘要

我们对常压下生长的多晶 LaO0.5F0.5BiS2\mathrm{LaO_{0.5}F_{0.5}BiS_{2}} 进行了横场μ子自旋弛豫(TF-μ\muSR)测量。通过这些测量,在低至25 mK的温度下未发现任何磁有序的迹象。外推至0 K的磁穿透深度值为0.89 (5) μ\mum。超导穿透深度的温度依赖性最好由以下两种模型之一描述:一种是具有 Δ1\Delta_{1} = 0.947 (7) meV 和 Δ2\Delta_{2} = 0.22 (4) meV 的多能隙 s + s 波模型,另一种是具有 Δ(0)\Delta(0) = 0.776 meV 和各向异性能隙幅度比 Δmin/Δmax\Delta_{min}/\Delta_{max} = 0.34 的各向异性 s 波模型。我们讨论了与其他潜在多能隙 BiS2\mathrm{BiS_{2}} 基超导体的比较。我们发现这些 BiS2\mathrm{BiS_{2}} 基超导体,包括 Bi4O4S3\mathrm{Bi_{4}O_{4}S_3} 和高压合成的 LaO0.5F0.5BiS2\mathrm{LaO_{0.5}F_{0.5}BiS_{2}},普遍符合上村关系。

关键词

引用

@article{arxiv.1611.04726,
  title  = {Superconducting gap structure in ambient-pressure-grown $\mathrm{LaO_{0.5}F_{0.5}BiS_{2}}$},
  author = {Jian Zhang and K. Huang and Z. F. Ding and D. E. MacLaughlin and O. O. Bernal and P. -C. Ho and C. Tan and X. Liu and D. Yazici and M. B. Maple and Lei Shu},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1611.04726},
  year   = {2016}
}

备注

6 pages, 4 figures