合成反铁磁纳米片的衬底保形压印制备工艺
应用物理
2022-11-23 v1
摘要
基于自旋电子学薄膜原理制备并表征用于流体/生物基应用的单分散磁性纳米片是一项挑战。这是由于所需的自顶向下方法中，在保持磁性能的同时将优化后的整片薄膜转移到流体中的自由颗粒尚属未知领域。在此，我们探索使用衬底保形压印光刻（SCIL）作为一种快速且具成本效益的制备途径。我们分析了标称直径 1.8 um 和 120 nm 的纳米片的尺寸分布，并展示了制备步骤对磁性能的影响，我们通过随着尺寸减小而主导的磁化反转机制的变化对此进行解释。我们表明 SCIL 可实现高效的规模化纳米片制备，并讨论了如何通过工艺与材料工程满足特定应用需求。
引用
@article{arxiv.2206.15320,
title = {Substrate conformal imprint fabrication process of synthetic antiferromagnetic nanoplatelets},
author = {J. Li and P. van Nieuwkerk and M. A. Verschuuren and B. Koopmans and R. Lavrijsen},
journal= {arXiv preprint arXiv:2206.15320},
year = {2022}
}