多层混合超表面器件的可扩展纳米压印制造
光学
2023-12-25 v1 应用物理
摘要
光学超表面由亚波长尺度的超原子阵列组成，有望克服传统光学的根本局限性。具有高均匀性和可重复性的超表面可扩展纳米制造是将技术从实验室演示转化为商业化的关键。近年来，纳米压印光刻 (NIL) 因其卓越的纳米级分辨率、快速原型制作和大面积制造能力，在超表面制造领域引起了越来越多的关注。尽管已有单层超表面的 NIL 演示，但双层及多层超表面的可扩展制造仍具挑战性。在此，我们利用 NIL 的纳米级分辨率和三维图案转移能力，制造了用于片上偏振成像器件的多层超表面。我们的工艺实现了亚 100 nm 纳米结构、高对准精度（平移误差 <200 nm；旋转误差 <0.02{\deg}）以及在 >20 mm2 面积上的良好均匀性（线宽偏差 <4 nm）。这种基于 NIL 的低成本、高通量纳米制造方法为超紧凑光学和光电子器件及系统的海量超表面结构的规模化生产铺平了道路。
引用
@article{arxiv.2312.14297,
title = {Scalable nanoimprint manufacturing of multi-layer hybrid metasurface device},
author = {Shinhyuk Choi and Jiawei Zuo and Nabasindhu Das Yu Yao and Chao Wang},
journal= {arXiv preprint arXiv:2312.14297},
year = {2023}
}
备注
5 figures