Ni/C 基多层膜的脉冲激光沉积条件研究
材料科学
2018-01-08 v2
摘要
镍碳基多层膜是通向未来硬 X 射线与软 射线聚焦望远镜的可行途径。在此，我们通过反射式高能电子衍射、X 射线反射与衍射、原子力显微镜、X 射线光电子能谱以及截面透射电子显微镜分析，研究此类双层膜的脉冲激光沉积生长条件，重点在于生长过程中工艺压强与衬底温度的优化。该薄多层膜生长于处理过的 SiO 衬底上，得到的 Ni 与 C 层表面粗糙度（RMS）为 0.2 nm。然而，靶表面熔融过程中产生的微小液滴增加了粗糙度且无法避免。在 300C 以上温度的连续工艺会导致两层间相互混合，破坏多层膜的反射率。
引用
@article{arxiv.1712.07376,
title = {Studying Pulsed Laser Deposition conditions for Ni/C-based multi-layers},
author = {Tjeerd R. J. Bollmann},
journal= {arXiv preprint arXiv:1712.07376},
year = {2018}
}
备注
7 pages, 7 figures